Sunic System’s Successful Demonstration of 1.1um Shadow Distance, High resolution up to 1500 ppi

Sunic System announced at 2016 IMID Business Forum that it succeeded in implementing 1.1um shadow distance by using plane source evaporation and 100um shadow mask. 1.1um shadow distance is able to manufacture 1000ppi~1500ppi high resolution.

Plane source evaporation is a technology to evaporate OLED light-emitting material on metal plate, invert it, apply heat to the metal plate, and vertically evaporate OLED light-emitting material. When the shadow angle(Ф) of OLED light-emitting material evaporation is 90 degrees, the value of SD(Shadow distance, step height / tanФ) is zero (0) theoretically. So, it is possible to design thick and high resolution FMM, which means high-resolution AMOLED panel can be manufactured. This principle was announced for the first time at IMID 2016 Business Forum, attracting big attention.

Sunic System Dr. Hwang Chang-hoon said “If we lower step height up to 3um by reducing the thickness of shadow mask based on this result, 0.37um shadow distance would be possible, which means we can manufacture maximum 2250ppi(11K) high resolution AMOLED panel. Accordingly, we will put spurs to development of 0.37 shadow distance”.

Also, he announced that co-evaporation of host and dopant that had been thought to be impossible in plane source has been resolved using flashing evaporation. He also proved that if donor film goes through flashing evaporation after co-evaporation of host and dopant, host and dopant can co-evaporate, and color control becomes easier by controlling dopant ratio to manufacture donor film.


<Result of Color Control after applying Flashing Evaporation>


<Result of 1.1um Shadow Distance>

선익시스템 1.1um shadow distance 데모 성공, 1500 ppi까지 구현 가능

선익시스템은 2016 IMID Business forum에서 plane source evaporation과 100um두께의 shadow mask로 1.1um의 shadow distance 구현에 성공했다고 발표했다. 1.1um의 shadow distance는 약 1000ppi~1500ppi의 고해상도 제작이 가능한 수치이다.

Plane source evaporation은 metal plate에 OLED 발광재료를 증착하고 뒤집은 후 metal plate에 열을 가함으로써 OLED 발광재료를 수직으로 증착시키는 기술이다. OLED 발광재료가 증착되는 shadow angle(Ф)이 90도가 되면 이론적으로 SD(Shadow distance, step hight / tanФ) 값이 0이 되기 때문에 FMM의 두께를 얇고 고해상도로 설계할 수 있어 고해상도 AMOLED panel 제조가 가능해 진다는 원리로서 지난 IMID 2016 학회에서 처음 발표되어 큰 관심을 끌었었다.

선익시스템의 황창훈 박사는 “이번 결과를 바탕으로 shadow mask 두께를 감소시켜 step height를 3um까지 감소시킨다면 0.37um의 shadow distance를 구현 가능하게 되고 이는 최대 2250ppi(11K)의 고해상도 AMOLED panel 제조가 가능해질 것” 이라며 0.37 shadow distance 구현을 위한 개발에 박차를 가할 것이라고 발표했다.

또한 이번 발표에서는 plane source에서는 불가능 할 것으로 예상됐던 host와 dopant의 co-evaporation을 급속가열(flashing evaporation)을 적용하여 해결 했다고 밝혔다. Donor film에 host와 dopant를 동시 증착한 후 donor film을 flashing evaporation을 하게 되면 host와 dopant를 동시에 증발시킬 수 있으며, donor film을 제작할 때 dopant ratio를 control 함으로써 color control을 쉽게 할 수 있음을 증명하였다.


<Flasing evaporation을 적용한 color control 결과>



<1.1um의 shadow distance를 구현한 결과>