[IMID 2015]UDC, 저 Mask OLED Patterning 기술 개발

현재 대면적 RGB OLED 패널을 제조할 수 있는 주요 방법으로 FMM(Fine Metal Mask)가 꼽히고 있지만 shadow effect와 mask total pitch 변동, mask slit tolerance의 문제로 수율이 제한적인 한계가 있다. 이런 한계는 해상도가 올라갈수록 점점 커지고 있어 OLED 패널 제조 시 사용되는 FMM 개수의 최소화는 RGB 방식 OLED의 주요 이슈였다.

UDC에서는 작년 SID 2014에서 “Novel Two Mask AMOLED Display Architecture”의 논문을 통해 기존의 3 mask를 사용하는 RGB-FMM 방식에서 mask 사용을 2장으로 줄일 수 있는 기술을 공개하여 큰 화제를 모았다.

이 기술은 위의 그림과 같이 yellow와 blue 서브픽셀을 각각의 mask를 써서 증착한 후 green과 red 서브픽셀 위에 각 색의 color filter를 올리는 방식이다. 이 때 공정 후 아래 그림과 같이 픽셀이 형성된다.

UDC는 이 기술을 통해 blue 전압을 줄일 수 있기 때문에 display 전체적인 수명이 향상되고 소비전력이 감소하는 장점을 가질 수 있다고 설명한 바 있다. 또한 이 기술을 통해 tact time을 감소하고 수율을 증가할 수 있다고 밝혔다.

이번 IMID 2015에서 UDC는 같은 제목의 연구를 발표하였다. 하지만 구체적인 내용은 작년에 발표한 내용보다 한 단계 발전하였다. 먼저 작년 SID에서 UDC는 RGB방식에 비해 패널의 수명을 2배 향상할 수 있다고 발표했지만 이번 IMID에서는 3.3배 향상할 수 있다고 발표하였다.

또한 printing 방식으로도 기술 구현이 가능하며, 이 때 한번에 2줄의 픽셀을 print할 수 있는 장점이 있다고 밝혔다. UDC는 OVJP(Organic Vapor Jet Printing)가 printing방식을 적용할 때 가장 적합한 방식이라고 발표하였다.

UDC는 이번 논문에서 SPR(Sub-Pixel Rendering)이라는 새로운 기술을 발표하였다. 작년 SID에서 발표한 논문은 SPR이 적용되지 않은 방식으로 아래 [그림1]과 같이 한 픽셀당RGY와 B의 4개의 서브픽셀로 구동된다.

이번 IMID에서는 SPR기술과 결합한 픽셀 구조를 선보였다. [그림2]과 같이 한 픽셀당 3개의 서브픽셀을 사용하여 구동하는 방식이다.

이 경우 [그림3]과 같이 픽셀을 배열할 수 있기 때문에 더 적은 서브 픽셀로 구성이 가능하다.

UDC는 SPR 기술을 통해 픽셀 한 개당 서브픽셀의 개수를 3개 이하로 줄일 수 있기 때문에 픽셀 당 data line의 개수와 TFT 개수를 같이 줄일 수 있다고 발표하였다.

UDC는 “이 기술은 면적이나 해상도에 관계없이 적용할 수 있기 때문에 앞으로 다양한 종류의 패널에 적용이 가능할 것으로 보인다.”고 밝혔다