OLEDON, ‘초격차’ OLED 제조용 면소스 증착기술 공개
2018년 10월 24일부터 서울 코엑스에서 열리고 있는 IMID2018에서 OLED 증착장비 개발 벤처회사인 OLEDON이 ‘경쟁 국가들과의 초격차를 유지하기 위한’ OLED 제조 기술인 면소스 증착기술을 공개하여 이목을 집중시키고 있다.
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2018년 10월 24일부터 서울 코엑스에서 열리고 있는 IMID2018에서 OLED 증착장비 개발 벤처회사인 OLEDON이 ‘경쟁 국가들과의 초격차를 유지하기 위한’ OLED 제조 기술인 면소스 증착기술을 공개하여 이목을 집중시키고 있다.
In SID 2018, Hwang Chang-Hoon, CEO of OLEDON, announced a new plane source FMM deposition technology that can produce ultra-high resolution AMOLED of 2,250 ppi. According to the announcement, the linear source currently applied to mass production has a problem of causing superimposition of fine adjacent patterns in a high resolution implementation due to a shadow distance of 3 μm. But Hwang said he succeeded in reducing the shadow distance of the patterns by 0.18 um using plane source, which is the smallest shadow distance ever introduced.
SID 2018에서 OLEDON의 황창훈 대표는 2,250ppi의 초고해상도 AMOLED를 제작 할 수 있는 새로운 면소스 FMM 증착기술을 발표했다.
발표에 따르면, 현재 양산에 적용 중인 리니어 소스는 3um의 섀도우 거리(shadow distance)로 인해 고해상도 구현 시 미세 인접 패턴들의 중첩을 발생시키기는 문제가 발생한다. 하지만 황대표는 면소스를 이용해 패턴들의 섀도우 거리를 0.18 um까지 줄이는데 성공하였다고 밝혔으며, 이는 현재까지 발표 된 섀도우 거리 중 가장 최소의 섀도우 거리라고 설명했다.
Sunic System announced at 2016 IMID Business Forum that it succeeded in implementing 1.1um shadow distance by using plane source evaporation and 100um shadow mask. 1.1um shadow distance is able to manufacture 1000ppi~1500ppi high resolution.